YWafer-RD8
RD8-ST_previewr.png
http://www.ysystems.jp/images/products/YWafer/RD8-ST_previewr.png
RD8-CP-325_front_side.png
http://www.ysystems.jp/images/products/YWafer/RD8-CP-325_front_side.png
RD8-WL-Prototype1.png
http://www.ysystems.jp/images/products/YWafer/RD8-WL-Prototype1.png
RD8-CP-325_back_side.png
http://www.ysystems.jp/images/products/YWafer/RD8-CP-325_back_side.png
ウェーハマッピング装置RD8-WLシリーズ(WL26及びWL48)は最大測定面積200×200mmまでの様々なウェーハサイズや形状に対応した装置です。2~6インチと4~8インチ自動搬送仕様から選べられます。基本測定にはフォトルミネッセンス、エピタキシャル膜厚、ウェーハ反り、透過率・反射率、裏面照射蛍光体分析、ウェーハ板厚の測定が含まれており、お客様のご要望に合わせて個別対応もさせていただきます。
YWafer-GS4
GS4-Image.jpg
http://192.168.11.4/www.ysystems.jp/images/products/YWafer/GS4-Image.jpg
GS4S-DUV-DESK.png
GS4-DUV-DESK
http://www.ysystems.dyndns.org/images/products/YWafer/GS4S-DUV-DESK.png
LED/LDの研究・生産用途向け2,3,4インチウェーハ対応フォトルミネッセンスおよび膜厚マッピング測定装置
YWafer-GS4-WL
GS4-WL-Image.jpg
http://www.ysystems.jp/images/products/YWafer/GS4-WL-Image.jpg
LED/LD研究・生産用途向け2,3,4インチウェーハ対応フォトルミネッセンスおよび膜厚マッピング測定装置
※ | 自動ウェーハローディング装置付き(内蔵カセット:ウェーハ 25×2 列) ウェーハ検出・測定位置決定の自動化 |
YWafer-RD8
RD8-ST_previewr.png
http://www.ysystems.jp/images/products/YWafer/RD8-ST_previewr.png
RD8-CP-325_front_side.png
http://www.ysystems.jp/images/products/YWafer/RD8-CP-325_front_side.png
RD8-WL-Prototype1.png
http://www.ysystems.jp/images/products/YWafer/RD8-WL-Prototype1.png
RD8-CP-325_back_side.png
http://www.ysystems.jp/images/products/YWafer/RD8-CP-325_back_side.png
ウェーハマッピング装置RD8シリーズは最大測定面積200×200mmまでの様々なウェーハサイズや形状に対応した装置です。基本測定にはフォトルミネッセンス、エピタキシャル膜厚、ウェーハ反り、透過率・反射率、裏面照射蛍光体分析、ウェーハ板厚の測定が含まれており、お客様のご要望に合わせて個別対応もさせていただきます。
YWafer-YB4
透過光源により蛍光体特性をマッピングする測定装置です。
2、4インチまでのウェーハホルダーを設定できます。
ご要望に応じて、様々な形状やサイズのウェーハに対応させ、測定項目の追加や個別測定なども開発いたします。
詳細は弊社までお問い合わせください。
YWafer-YB3/YB3S
透過光源による蛍光体特性をマッピングする測定装置です。
2、3インチまでの円形または正方形のウェーハホルダーを設定できます。
ご要望に応じて、様々な形状やサイズのウェーハに対応させ、測定項目の追加や個別測定なども開発いたします。
詳細は弊社までお問い合わせください。