2010年のエキシマ励起PL測定機の試作からワイ・システムズは深紫外線用材料の検査技術を開発し続けています。その結果今、最先端の深紫外線発光ダイオード(DUV-LED)研究や生産向けにYWafer-GS4-DUVを紹介します。従来の優れたGS4プラットフォームと最新小型空冷エキシマ・レーザーの組み合わせで、課題となるAlGaN基板及び成膜構造の発光波長や透過率を高速でより精密に測定が可能になりました!

特徴:
・196nmから発光分光測定
・1時間100枚までの2と4インチ・ウェーハ全自動搬送機オプション、又は100x100mmまで自由ウェーハ・サイズの手動搬送
・ユーティリティ:電気以外不要な統合システム
・市場で唯一の高い測定効率(同時にフォトルミネッセンス、透過又は反射率、膜厚、反り測定!)
・装置内リファレンスなど高い測定再現性のための最適な光学設計

GS4S-DUV-DESK

GS4-DUV-DESK (外観は報告無く変更されることがあります)

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